?
住友的潔凈臭氧水制造設備是將潔凈臭氧發生器產生的臭氧氣體溶解于超純水中,生成臭氧水的裝置。最大限度地抑制微粒子和金屬污染的溶出,在半導體、液晶等電子設備材料的制造過程中,用于去除有機物、表面改性等用途,得到眾多客戶的高度評價評價。。應用領域半導體各種晶圓FPD(LTPS、HTPS、TFT、彩色濾光片、OLED)光罩硬盤SGX-1G21SNC規格
臭氧水濃度:5至100ppm臭氧水流量:1 至 120 升/分鐘臭氧水供給壓力:max.0.25MPa原料氣:氧氣,(二氧化碳作為濃度衰減的對策)電源:AC200V 三相
SGX-1B11SN規格
臭氧水濃度 5至150ppm臭氧水流量 1 至 90 升/分鐘原料氣 氧氣,(二氧化碳作為濃度衰減的對策)電源 AC200V 三相
SGXG規格
臭氧水濃度:5-30ppm臭氧水流量:1 至 60 升/分鐘原料氣:氧氣(二氧化碳作為濃度衰減的對策)電源:AC200V 三相特征能夠處理高濃度和大流量占地面積小,結構緊湊低廉的運行成本(低功耗、更換部件少、放電電池壽命長)高耐壓、長壽命的高可靠性放電電池快速啟動和出色的集中響應能力通過連接臭氧濃度計(反饋控制)實現出色的濃度穩定性CE/NRTL 認證,符合 SEMI 標準停機時無需維護也可提供不含硝酸的臭氧水
與日本住友SGX系列半導體用臭氧水生產設備相關的實驗現場
Q:電-多相臭氧催化氧化工藝深度處理焦化廢水研究
A:電-多相臭氧催化氧化工藝深度處理焦化廢水研究 本文研究了電-多相臭氧催化工藝對焦化廢水;
Q:膜接觸電催化臭氧氧化工藝構建
A:膜接觸電催化臭氧氧化工藝構建 膜接觸臭氧氧化 (MCO) 工藝以疏水膜為臭氧提供豐富的氣液接觸;
Q:超聲臭氧強化處理高濃度有機廢水研究
A:超聲臭氧強化處理高濃度有機廢水研究 本文主要研究了超聲臭氧處理高濃度有機廢水的可行性;
Q:高效臭氧溶氣裝置介紹
A:高效臭氧溶氣裝置 一) 、臭氧溶解效率 臭氧溶解效率(O3)=臭氧溶解量/臭氧投加量,是影響;
Q:臭氧發生器進氣(空氣或氧氣)流量測量單位
A:臭氧發生器進氣(空氣或氧氣)流量測量單位 LPM=升每分鐘 通過臭氧發生器的原料氣流量的計量測;
Q:臭氧濃度單位有哪些
A:臭氧濃度單位有哪些 臭氧濃度單位有哪些,有什么區別呢? wt% =重量百分比 指在給定體積中臭;
Q:高級氧化技術應用范圍
A:高級氧化技術應用范圍 現代工業的發展,導致進入水體中的有機物數量和種類急劇增加,水體;
Q:OXYCYCLE?氧氣回收裝置介紹
A:OXYCYCLE氧氣回收裝置介紹 使臭氧生產達到新的效率水平。 當你能回收氧氣時,為什么要浪費;
Q:O3/TiO2-NF/H2O2 工藝深度處理焦化廢水
A:O3/TiO2-NF/H2O2 工藝深度處理焦化廢水 本文研究了在恒定臭氧濃度(84mg/L)下,不同H2O2投加量(以 30;
Q:O3/TiO2-NF工藝深度處理焦化廢水研究
A:O3/TiO2-NF 工藝深度處理焦化廢水研究 O3/ TiO2-NF工藝對焦化廢水的 COD 去除能力非常有限.如圖1 所;
Q:逆流萃取+臭氧氧化聯合工藝處理油基巖屑效果研究
A:逆流萃取+臭氧氧化聯合工藝處理油基巖屑效果研究 為解決頁巖氣開采過程中產生的油基巖屑的;
Q:評價臭氧氧化對林可霉素的效價削減效果研究
A:評價臭氧氧化對林可霉素的效價削減效果研究 中國是世界上大的抗生素生產國,是青霉素、四;
Q:臭氧氧化印染工業園廢水影響因素研究
A:臭氧氧化印染工業園廢水影響因素研究 印染廢水具有污染物成分復雜、高色度、高濁度、高;
Q:不同晶體結構二氧化錳上氣態臭氧的催化分解
A:臭氧是一種普遍存在的污染物,二氧化錳(MnO2)被廣泛用于臭氧的分解。然而,二氧化錳結構對;
Q:臭氧與過氧化鈣(O3/CaO2)降解甲基紅染料廢水研究
A:紡織品印染廢水排放量大,組成復雜,污染物濃度高,其中含有大量結構復雜的染料和化合物[1].色;
Q:影響臭氧水浸泡法去除農殘效果的因素
A:影響臭氧水浸泡法去除農殘效果的因素 4.2.1 臭氧水濃度 一般來說臭氧水濃度增大可以增大農藥;